Keramikring af høj renhedsalumina til CVD/PVD-proceskamre
St.Ceras keramiske ring er specielt designet til brug i CVD (Chemical Vapor Deposition) og PVD (Physical Vapor Deposition) proceskamre. Denne ring er fremstillet af 99,8% aluminiumoxid med høj renhed (Al₂O₃) og fungerer som en kammerforing, fokusring eller processætkomponent til at indeslutte plasma og beskytte kammervægge mod erosion. Materialet tilbyder fremragende plasmamodstand, høj dielektrisk styrke (15×10⁶ V/m) og termisk stabilitet op til 1600°C, hvilket sikrer lang levetid i aggressive fluorbaserede plasmamiljøer. Præcise dimensionstolerancer (±0,05 mm på ID/OD) og fladhed (≤10 μm) muliggør ensartet positionering af waferkanten, hvilket forbedrer aflejringsensartetheden og reducerer partikelgenerering.
Specifikationer (baseret på 99,8% Al₂O₃):
| Ejendom | Værdi |
| Materiale | 99,8% aluminiumoxid (elfenben) |
| Tæthed | 3,93 g/cm³ |
| Vandabsorption | 0% |
| Bøjningsstyrke | 361 MPa |
| Brudstyrke | 3–4 MPa·m¹/² |
| Vickers-hårdhed | 16 GPa |
| Youngs modul | 380 GPa |
| Termisk ledningsevne | 32 W/m·k |
| Termisk ekspansion (25–1000 °C) | 7,2 × 10⁻⁶/℃ |
| Dielektrisk styrke | 15×10⁶ V/m |
| Specifik modstand | >10¹⁴ Ω·cm |
| Maks. driftstemperatur | 1600°C |
Anvendelser:
- · CVD-kammerfokusringe og kantringe
- · PVD-kammerbeskyttelsesringe og klemringe
- · Æts kammerforinger og dækselringe
- · Plasmaindeslutningsringe i dielektriske ætsesystemer
Fremstillingsproces:
Isostatisk presning → grøn bearbejdning → sintring ved 1600°C → CNC ID/OD-slibning → overfladelapning → ultralydsrensning → 100% CMM-inspektion. Ultraglat overfladefinish (Ra ≤0,4 μm) minimerer partikeladhæsion.
Kvalitetskontrol:
- · 100% dimensionskontrol (ID, YD, tykkelse, fladhed)
- · Inspektion af farvestofpenetrant for mikrorevner i overfladen
- · Dielektrisk styrketest i henhold til ASTM D149
- · Ingen synlig misfarvning eller porøsitet under 20× mikroskop
Fordele i forhold til metal- eller kvartsringe:
- · 5-10 gange længere levetid end aluminiumringe i fluorplasma
- · Ingen metalforurening i tynde film
- · Højere plasmamodstand end kvarts (ingen erosionshuller)
- · Opretholder elektrisk isolering >10¹⁴ Ω·cm selv efter langvarig brug
Alternativt materiale — siliciumnitrid (Si₃N₄):
Til anvendelser, der kræver endnu højere brudstyrke (6,2 MPa·m¹/²) og bedre termisk stødmodstand (ekspansionskoefficient 3,2×10⁻⁶/℃), er Si₃N₄-ringe tilgængelige. Alumina er dog mere omkostningseffektivt til de fleste CVD/PVD-anvendelser. Angiv venligst materialepræference ved bestilling.
Tilpasning:
- · Gennemgående huller, trinprofiler eller forsænkninger til montering
- · Y₂O₃-belagt overflade for forbedret plasmamodstand (valgfrit)
- · Lasergravering af varenummer/lotkode
Note:Ovenstående data følger nøje den medfølgende Al₂O₃-egenskabstabel. For Si₃N₄-ringe henvises til det separate Si₃N₄-datablad, der medfølger.








