sidebanner

Keramikring af høj renhedsalumina til CVD/PVD-proceskamre

Keramikring af høj renhedsalumina til CVD/PVD-proceskamre

Kort beskrivelse:

St.Ceras keramiske ring er specielt designet til brug i CVD (Chemical Vapor Deposition) og PVD (Physical Vapor Deposition) proceskamre. Denne ring er fremstillet af 99,8% aluminiumoxid med høj renhed (Al₂O₃) og fungerer som en kammerforing, fokusring eller processætkomponent til at indeslutte plasma og beskytte kammervægge mod erosion. Materialet tilbyder fremragende plasmamodstand, høj dielektrisk styrke (15×10⁶ V/m) og termisk stabilitet op til 1600°C, hvilket sikrer lang levetid i aggressive fluorbaserede plasmamiljøer. Præcise dimensionstolerancer (±0,05 mm på ID/OD) og fladhed (≤10 μm) muliggør ensartet positionering af waferkanten, hvilket forbedrer aflejringsensartetheden og reducerer partikelgenerering.


Produktdetaljer

Produktmærker

St.Ceras keramiske ring er specielt designet til brug i CVD (Chemical Vapor Deposition) og PVD (Physical Vapor Deposition) proceskamre. Denne ring er fremstillet af 99,8% aluminiumoxid med høj renhed (Al₂O₃) og fungerer som en kammerforing, fokusring eller processætkomponent til at indeslutte plasma og beskytte kammervægge mod erosion. Materialet tilbyder fremragende plasmamodstand, høj dielektrisk styrke (15×10⁶ V/m) og termisk stabilitet op til 1600°C, hvilket sikrer lang levetid i aggressive fluorbaserede plasmamiljøer. Præcise dimensionstolerancer (±0,05 mm på ID/OD) og fladhed (≤10 μm) muliggør ensartet positionering af waferkanten, hvilket forbedrer aflejringsensartetheden og reducerer partikelgenerering.

 

Specifikationer (baseret på 99,8% Al₂O₃):

Ejendom Værdi
Materiale 99,8% aluminiumoxid (elfenben)
Tæthed 3,93 g/cm³
Vandabsorption 0%
Bøjningsstyrke 361 MPa
Brudstyrke 3–4 MPa·m¹/²
Vickers-hårdhed 16 GPa
Youngs modul 380 GPa
Termisk ledningsevne 32 W/m·k
Termisk ekspansion (25–1000 °C) 7,2 × 10⁻⁶/℃
Dielektrisk styrke 15×10⁶ V/m
Specifik modstand >10¹⁴ Ω·cm
Maks. driftstemperatur 1600°C

 

Anvendelser:

  • · CVD-kammerfokusringe og kantringe
  • · PVD-kammerbeskyttelsesringe og klemringe
  • · Æts kammerforinger og dækselringe
  • · Plasmaindeslutningsringe i dielektriske ætsesystemer

 

Fremstillingsproces:

Isostatisk presning → grøn bearbejdning → sintring ved 1600°C → CNC ID/OD-slibning → overfladelapning → ultralydsrensning → 100% CMM-inspektion. Ultraglat overfladefinish (Ra ≤0,4 μm) minimerer partikeladhæsion.

 

Kvalitetskontrol:

  • · 100% dimensionskontrol (ID, YD, tykkelse, fladhed)
  • · Inspektion af farvestofpenetrant for mikrorevner i overfladen
  • · Dielektrisk styrketest i henhold til ASTM D149
  • · Ingen synlig misfarvning eller porøsitet under 20× mikroskop

 

Fordele i forhold til metal- eller kvartsringe:

  • · 5-10 gange længere levetid end aluminiumringe i fluorplasma
  • · Ingen metalforurening i tynde film
  • · Højere plasmamodstand end kvarts (ingen erosionshuller)
  • · Opretholder elektrisk isolering >10¹⁴ Ω·cm selv efter langvarig brug

 

Alternativt materiale — siliciumnitrid (SiN):

Til anvendelser, der kræver endnu højere brudstyrke (6,2 MPa·m¹/²) og bedre termisk stødmodstand (ekspansionskoefficient 3,2×10⁻⁶/℃), er Si₃N₄-ringe tilgængelige. Alumina er dog mere omkostningseffektivt til de fleste CVD/PVD-anvendelser. Angiv venligst materialepræference ved bestilling.

 

Tilpasning:

  • · Gennemgående huller, trinprofiler eller forsænkninger til montering
  • · Y₂O₃-belagt overflade for forbedret plasmamodstand (valgfrit)
  • · Lasergravering af varenummer/lotkode

 

Note:Ovenstående data følger nøje den medfølgende Al₂O₃-egenskabstabel. For Si₃N₄-ringe henvises til det separate Si₃N₄-datablad, der medfølger.


  • Tidligere:
  • Næste: