sidebanner

Siliciumkarbid (SiC)-baseret vakuumpatron til højtemperatur- og plasmamiljøer

Siliciumkarbid (SiC)-baseret vakuumpatron til højtemperatur- og plasmamiljøer

Kort beskrivelse:

St.Ceras SiC-baserede keramiske patron er fremstillet af siliciumcarbid med høj renhed (batch S1111, SiC 99,72%, frit Si 0,05%). Den leverer en målt bøjningsstyrke på 449 MPa, en brudstyrke på 3,12 MPa·m¹/² og et elasticitetsmodul på 457 GPa. Materialets typiske varmeledningsevne (120-150 W/m·K) og lave varmeudvidelse (4,0-4,5×10⁻⁶/℃) muliggør hurtig temperaturstigning og minimal wafer-vridning under termisk cykling. Patronen kan konfigureres som en porøs vakuumpatron (ensartet gasstrøm) eller en rillet standardpatron. Med en maksimal brugstemperatur på 1600-1700°C (uden belastning) og enestående plasmaerosionsbestandighed er denne patron ideel til højtemperatur-waferbehandling (glødning, RTP) og aggressive ætsekamre, hvor aluminiumoxidpatroner nedbrydes.


Produktdetaljer

Produktmærker

St.Ceras SiC-baserede keramiske patron er fremstillet af siliciumcarbid med høj renhed (batch S1111, SiC 99,72%, frit Si 0,05%). Den leverer en målt bøjningsstyrke på 449 MPa, en brudstyrke på 3,12 MPa·m¹/² og et elasticitetsmodul på 457 GPa. Materialets typiske varmeledningsevne (120-150 W/m·K) og lave varmeudvidelse (4,0-4,5×10⁻⁶/℃) muliggør hurtig temperaturstigning og minimal wafer-vridning under termisk cykling. Patronen kan konfigureres som en porøs vakuumpatron (ensartet gasstrøm) eller en rillet standardpatron. Med en maksimal brugstemperatur på 1600-1700°C (uden belastning) og enestående plasmaerosionsbestandighed er denne patron ideel til højtemperatur-waferbehandling (glødning, RTP) og aggressive ætsekamre, hvor aluminiumoxidpatroner nedbrydes.

 

Specifikationer(baseret på leveret SiC S1111 testrapport og typiske værdier)):

Ejendom Værdi
Materiale SiC (99,72% SiC, 0,05% frit Si)
Tæthed 3,10–3,15 g/cm³
Vandabsorption 0%
Bøjningsstyrke 449 MPa
Brudstyrke 3,12 MPa·m¹/²
Elasticitetsmodul 457 GPa
Vickers hårdhed 25–28 GPa
Termisk ledningsevne 120–150 W/m·K
CTE (25–1000 °C) 4,0–4,5 × 10⁻⁶/℃
Maks. brugstemperatur (ingen belastning) 1600–1700°C
Fladhed (over 300 mm) ≤5 μm
Overfladefinish Ra ≤0,4 μm (overlappet)

 

Anvendelser:

● Højtemperaturspændning (glødning, RTP, epitaksial vækst)

● Plasmaætsningspatron med høj fluorresistens

● Håndtering af tynde wafere med ensartet opvarmning/køling

● Porøs borepatron til berøringsfri waferunderstøttelse

 

Fremstilling:

SiC-sintring → præcisionsslibning af planhed og overfladeprofil → valgfri dannelse af porøs struktur (til vakuumpatron) → lapning → ultralydsrensning. Hver patron inspiceres 100% for planhed (laserinterferometer) og vakuumensartethed (flowtest).

 

Kvalitetskontrol:

● CMM-dimensionskontrol (diameter, tykkelse, hulpositioner)

● Måling af planhed i henhold til ASTM

● Heliumlækagetest (for vakuumpatroner)

● Verifikation af bøjningsstyrke pr. batch (jf. testrapport)

 

Fordele i forhold til aluminiumoxid-spindler:

● Højere varmeledningsevne (120-150 vs. 32 W/m·K for aluminiumoxid) – 4 gange hurtigere varmeoverførsel

● Lavere CTE (4,0 vs 7,2×10⁻⁶/℃) – reducerer termisk stress på waferen

● Overlegen plasmaresistens – 10 gange længere levetid ved fluorætsning

● Højere maksimal brugstemperatur (1600 °C vs. 800 °C for aluminiumoxid)

 

Tilpasning:

● Porøs eller rillet overflade

● Diameter 100–450 mm, rund eller firkantet

● Kanttætningsring eller zonevakuumskillevægge

● Metalbagside som ekstraudstyr til montering med høj stivhed

Alle ovenstående mekaniske data stammer fra den medfølgende testrapport (batch S1111). Termiske værdier og hårdhedsværdier er typiske for denne SiC-kvalitet. Porøse SiC-spændepatroner kræver yderligere bearbejdning; forhør dig venligst om specifik porøsitet og porestørrelse.


  • Tidligere:
  • Næste: